: plasma清洗機在半導體制造中的應用2024-11-06

在半導體制造中，plasma清洗機是一種非常重要的設備，用于清潔和處理半導體器件表面，以確保器件的質(zhì)量和性能。利用高能離子和活性氣體來去除表面的有機和無機雜質(zhì)，同時可以改變表面的化學性質(zhì)，從而提高器件的性能。在半導體制造中，plasma清洗機主要用于以下幾個方面：1、清洗表面：在半導體器件的制造過程中，表面往往會被污染或覆蓋有氧化物等雜質(zhì)。這些雜質(zhì)會影響器件......

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等離子清洗機的優(yōu)勢 2021-07-05

優(yōu)勢一、清洗對象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序。可以提高整個工藝流水線的處理效率；二、等離子清洗使得用戶可以遠離有害溶劑對人體的傷害，同時也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題；三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑，這樣清洗后不會產(chǎn)生有害污染物，因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。......

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納米壓痕儀的主要應用和特點 2021-07-02

納米壓痕儀主要用于微納米尺度薄膜材料的硬度與楊氏模量測試，測試結果通過力與壓入深度的曲線計算得出，無需通過顯微鏡觀察壓痕面積.主要應用半導體技術(鈍化層、鍍金屬、BondPads)；存儲材料(磁盤的保護層、磁盤基底上的磁性涂層、CD的保護層)；光學組件(接觸鏡頭、光纖、光學刮擦保護層)；金屬蒸鍍層；防磨損涂層(TiN,......

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等離子蝕刻機的結構 2021-06-30

等離子刻蝕機，又叫等離子蝕刻機、等離子平面刻蝕機、等離子體刻蝕機、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子刻蝕，是干法刻蝕中最常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材......

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X射線熒光光譜分析（xrf）應用：玻璃陶瓷耐材行業(yè) 2021-06-29

一、玻璃行業(yè)*硼硅玻璃:用于實驗室玻璃器皿，管道，烤箱器皿，密封光線，絕緣玻璃纖維(4%到14%硼)*光學玻璃:crownsａndflints*鉛玻璃:用于防護，電視機顯像管，光學和裝飾性用途(富鉛玻璃:PbO~25%)*玻璃陶瓷:不透明玻璃(不含CaO)*白玻璃:含有10%ZnO,乳白色*石英玻璃:96%SiO2,高......

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